Nordson March - Hệ thống xử lí bề mặt bằng công nghệ Plasma - Dòng SPHERE
Hệ thống xử lý bề mặt bằng công nghệ Plasma dòng SPHERE giúp hỗ trợ việc xử lý và xử lý tự động các loại wafer / bộ phận hình tròn hoặc vuông có kích thước từ 75mm đến 300mm, bao gồm cả wafer mỏng có hoặc không có lớp bảo vệ (carrier) tùy thuộc vào độ dày của tấm wafer.
Thiết kế buồng plasma độc quyền giúp đảm bảo quá trình etch được thực hiện đồng đều trên toàn bộ bề mặt wafer mà không có sự chênh lệch đáng kể về độ sâu hoặc tốc độ giữa các vùng trên wafer.
Công nghệ plasma được áp dụng rộng rãi ở các giai đoạn quan trọng như quá trình loại một phần vật liệu từ bề mặt để tạo khe, đường rãnh hoặc cấu trúc khác trên bề mặt wafer (etching); quá trình loại bỏ tạp chất hữu cơ (ashing); quá trình loại bỏ tạp chất và vết bẩn (descum).
Một số ứng dụng khác của màng plasma bao gồm loại bỏ yếu tố gây ô nhiễm, thay đổi cấu trúc từ đó thay đổi đặc tính bề mặt (độ bám dính, tính thấm hút,…), loại bỏ lớp photoresist / polymer, tạo đinh tán để tạo các đầu nối vi mạch hoặc các bộ phần khác (wafer bumping) ets vật liệu cách điện, wafer bumping, làm mát/ giảm độ sức căng giúp tăng tính ổn định và độ bền của wafer (wafer destress),…
- Làm sạch Wafer: Dòng SPHERE loại bỏ chất bẩn trước quá trình wafer bumping, loại bỏ các chất bẩn hữu cơ, loại bỏ flour, các tạp chất halogen khác, và các oxit kim loại và kim loại. Plas cũng cải thiện độ dính film (Film adhesion) và làm sạch các pad dán kim loại.
- Ăn mòn wafer – Hệ thống plasma loại bỏ trên wafer các chất cản quang còn lại và BCB, các lớp điện môi mẫu để phân phối lại, chất cản quang dải/ăn mòn, tăng cường độ bám dính của vật liệu được sử dụng cho wafer, loại bỏ khuôn/epoxy dư thừa, tăng cường độ bám dính của các vết hàn bằng vàng, loại bỏ ứng suất wafer để giảm vỡ, cải thiện độ bám dính của màng kéo sợi và làm sạch các miếng liên kết bằng nhôm.
Thông số kỹ thuật
| | StratoSPHERE™ | MesoSPHERE™ |
Kích thước - Footprint | 1405W x 26150 x 1742H mm (55W x 103D x 69H in) | Single Chamber werem: 1480W x 2700D x2180H mm (58W x 108D x 88H in)
Dual Chamber werem: 1480W x 2700D x2180H mm (58W x 106D x 88H in)
Quad Chamber w/ EFEM: 2695W x2700D x2190H mm (108W x106D x88H in) |
Tổng trọng lượng: mô-đun xử lý
EFEM | 480 kg (1058 Ibs)
640 kg (1411 Ibs) | 725 kg (1600 Ibs)
880 kg (1800 Ibs) |
Thể tích tối đa | 5.5 liters (338 in³) | 11.7 liters (715 in³) |
Các cấu hình điện cực có thể điều chỉnh. | Power-Ground, Ground-Power, Power-Power | Power-Ground, Ground-Power, Power-Power |
Loại khí phun | Nitrogen, Hydrogen (Requires Additional Non-Optional Hardware) | Nitrogen, Hydrogen (Requires Additional Non-Optional Hardware) |
Thiết bị tích hợp | Chiller, Scrubber | Chiller, Scrubber |
Nordson MARCH là nhà sản xuất hàng đầu trong công nghệ xử lý plasma cho các ngành sản xuất bán dẫn, bo mạch in (PCB), vi điện tử, năng lượng mặt trời, đèn LED và thiết bị y tế và khoa học đời sống. Nordson MARCH có văn phòng và phòng thí nghiệm ứng dụng trên toàn thế giới, bao gồm California, Florida, Châu Âu, Singapore, Trung Quốc, Nhật Bản, Hàn Quốc, Ấn Độ và Đài Loan.
Với hơn 20 năm liên tục đổi mới, Nordson MARCH thiết kế và ra mắt dòng sản phẩm hoàn chỉnh các hệ thống xử lý plasma được trao giải thưởng và cấp sáng chế. Đội ngũ chuyên gia và kỹ thuật luôn sẵn sàng hỗ trợ trong việc phát triển quá trình xử lý plasma đảm bảo chất lượng sản phẩm và tối đa hóa quy trình sản xuất.
Cần hỗ trợ thêm thông tin, Quý khách vui lòng liên hệ:
Hotline: 0906 654 815
Email: tecinfo.vn@dksh.com
